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產品詳(xiang)細頁
等離子發光分析終點檢測儀

等離子發光分析終點檢測儀

  • 產品型號:EV-140C
  • 更(geng)新時間:2023-03-19
  • 產品介紹:這是一套分析放射性發光的終點監測設備,為以等離子技術為基礎的半導體薄膜制程進行終點檢定或等離子條件的監控而研制。數學模型技術賦予它通過捕獲微弱信號的變化進行終點檢定的能力。在放射性發光中捕獲微弱變化的能力顯著地提高了靈敏度。對于抗干擾性的改善確保了本設備在復雜環境下持續不停的生產線上獲得高穩定的運行。
  • 在線留言 86-21-54933058/54933060/54933358/54182486/28097339

產品介紹

 

特征

  • 布賴特光柵

布賴特光(guang)學系統(tong)是通過HORIBA Jobin Yvon制造的(de)一個巨大的(de),直徑為70 mm的(de)偏差糾正(zheng)凹面光(guang)柵而實(shi)現(xian)的(de)。凹面光(guang)柵本身的(de)聚光(guang)能力使其具有 比短焦距車爾尼特納(na)型光(guang)譜(pu)儀更為明亮的(de)一套簡易(yi)光(guang)學系統(tong)架(jia)構,并且可以小化因為鏡面及其他反射(she)面造成(cheng)的(de)反射(she)損失。

  • 背光式CCD傳感器可以提供高靈敏度和高分辨度的2048個光學通道。

背光式CCD可(ke)(ke)以達到(dao)(dao)高(gao)量(liang)子效率,確保(bao)從紫外(wai)光到(dao)(dao)可(ke)(ke)見光之(zhi)間的寬波段范(fan)圍(wei)內獲得穩(wen)定(ding)的分光鏡使用(yong)。高(gao)靈敏度的測(ce)量(liang)在紫外(wai)光波段,特(te)別是在那些(xie)較(jiao)少受到(dao)(dao)干擾影響的波長范(fan)圍(wei),使終(zhong)點監測(ce)成為(wei)可(ke)(ke)能。

  • 專為*制程控制而準備的Sigma-P軟件

應制程(cheng)控制的(de)(de)要求,此軟件(jian)可(ke)(ke)(ke)以(yi)執行(xing)多(duo)種工(gong)序(xu)(xu)(xu),從等(deng)(deng)離子(zi)體現象分析到(dao)測(ce)(ce)量數據的(de)(de)數據庫(ku)創建和(he)生產設(she)備(bei)的(de)(de)遠程(cheng)遙控。測(ce)(ce)量工(gong)序(xu)(xu)(xu)的(de)(de)可(ke)(ke)(ke)編程(cheng)架構設(she)計使其可(ke)(ke)(ke)以(yi)對多(duo)重(zhong)監測(ce)(ce)和(he)時序(xu)(xu)(xu)處(chu)理進行(xing)設(she)定。它(ta)賦(fu)予檢(jian)測(ce)(ce)器(qi)不(bu)僅可(ke)(ke)(ke)以(yi)被(bei)(bei)用于終點監測(ce)(ce),同時也可(ke)(ke)(ke)以(yi)被(bei)(bei)廣泛的(de)(de)用于等(deng)(deng)離子(zi)體環(huan)境下(xia)的(de)(de)監測(ce)(ce)。

 

  • 這是一種對于等離子體異常情況進行報警的*設計,也可以通過利用2種波長之間的變換系數來指導終點測量。
  • 全回收功能

一旦收集到光譜學的數據后,對制程優化或者終點監測的模擬可以通過應用新的制程設計反復進行。

 

  • 一個用于識別等離子中發光類別的數據庫已經包含在內
  • 光譜學數據可以轉換成一個時距記錄曲線圖,或者可以通過屏幕格式,把操作波形,比對參考數據獲得的相對計算波形和其他信息顯示出來。
  • 為時間記錄圖分析而準備的自動圖形軟件

從(cong)巨(ju)大并(bing)伴(ban)隨干擾(rao)的(de)(de)光譜數(shu)據中(zhong)發現(xian)細(xi)微(wei)的(de)(de)圖(tu)形(xing)差(cha)異是(shi)一個(ge)艱(jian)巨(ju)的(de)(de)挑(tiao)戰。自(zi)動(dong)圖(tu)形(xing)軟件將自(zi)動(dong)地找到(dao)圖(tu)形(xing)變(bian)化的(de)(de)特征并(bing)測(ce)定為(wei)合(he)適的(de)(de)終點波長。

  • 強大的終點數學模型。
  • 通過使用客戶波長范圍的計算波形和過濾系統,終點可以被準確的發現。在接近2個區域的2條直線的交叉點,發展的數學模型賦予機臺穩定的監測細微變化的性能。此功能確保各點的變化準確地從干擾中被區分出來,正如終點在微小開放區域內的細號變化,都能被準確的監測。
  • 超出微小開放區域(<0.2%)的蝕刻監測。

當(dang)頻(pin)率(lv)(lv)率(lv)(lv)波器(qi)將干擾信(xin)號(hao)從原始信(xin)號(hao)中過濾掉后,不(bu)同信(xin)號(hao)(粉色(se)線)在圖形中的比率(lv)(lv)(黑色(se)線)變化(上(shang)升(A+B+C)/減小(D+E+F))可以使我們準確監(jian)測(ce)到終點的位置。

  • 制程設計,一種伴隨分析結果同步自動完成的制程生成軟件(選擇項軟件)
  • 制程設計是自動圖形分析工具的一種衍生版本。它賦予使用者通過在顯示器上實時的分析和模擬,生成數學模型。這種數學模型可以很容易地被構建到真實的制程里。對于那些微弱和復雜的發光類別型的終點監測, 或者因制程條件的變化而不能被發現的終點監測,或者類似情況,這種設計可以使制程研制的負擔大大減輕。
  • *步:自動分離出波長變化的圖形;
  • 第二步:使用接近的2條直線,鑒定出變化點;
  • 第三步:通過完整的數學模型進行的EDP模擬管理可以被輸出和構建到Sigma-P中;*的統計處理:反饋給制程。
  • 統計處理編輯可以從大量不同的視圖中分析日志數據,幫助提高異常分析和缺陷率。分析的結果可以被反饋到測量當中。

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