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產品詳細(xi)頁(ye)
韓國NanoSystem非接觸表面輪廓儀

韓國NanoSystem非接觸表面輪廓儀

產品介紹

韓國NanoSystem非接觸表面輪廓儀

型(xing)號:NV-1800/NV-2400/NV-2700

韓國NanoSystem非(fei)接觸(chu)光學表面形貌測量系統



高精度非(fei)接觸式表面形貌檢測(ce)

無損3D表面輪廓分析

宜用平臺(tai)提供快速、高效(xiao)的(de)工藝流(liu)程的(de)監(jian)控

全(quan)面、直觀的軟(ruan)件提供了式樣和(he)應用靈活性

主要(yao)功能(neng)

3D形貌測量

高,深,間隔(從納米級(ji)到(dao)5mm

粗糙度(du)(R參數)表(biao)面(S參(can)數)

面積(ji)(ji)信息(xi)(體積(ji)(ji),面積(ji)(ji))

2D測量(liang)

NanoView可靠(kao)性在(zai)許多應用領域發揮性能。

NanoView 提供完整的表面形貌納(na)米測量和分析(xi)技術(shu)方案。

韓國NanoSystem非接觸(chu)表面(mian)輪廓(kuo)儀(yi)

NV-Serise技術(shu)參數(shu)

型號

NV-1800

NV-2400

NV-2700

測量原理

非接觸三維 白光掃描干涉法(WSI/移相干涉法(PSI

現場放(fang)大鏡

1.0×(標配)

1.0×(標配)

1.0×(標(biao)配)

物(wu)鏡

單鏡頭

可選5個鏡(jing)頭(手動鼻輪)

可選5個鏡頭(tou)(自(zi)動鼻輪(lun))

光源(yuan)

白光LED光源

掃(sao)描方式

閉環控制壓電(dian)促(cu)動掃描方(fang)式

縱向掃描范(fan)圍(wei)

Max 270um(可拓展到:5mm

縱向掃描速(su)度(du)

12um/sec1X~5X倍率可選)

傾(qing)斜

±3°(樣品臺傾斜)

頭部傾斜±5°(手動模式)

頭部傾斜±5°(自動模式)

縱向分(fen)辨率

WSI:0.5nm / PSI:0.1nm

橫向分(fen)辨率(lv)

0.2~4um(取決于(yu)物鏡/視(shi)場放(fang)大鏡倍率)

臺階重復性(xing)

0.5%1s

XY樣品臺行程

140×140mm(手動)

230×230mm(自(zi)動)

230×230mm(自動)

XY樣品臺行(xing)程

50×50mm(手動)

100×100mm(手動)

100×100mm(自(zi)動)

Z軸行程

30mm(手動)

100mm(手動)

100mm(自動)

環境(jing)要(yao)求

溫度:15~30℃,溫(wen)度變(bian)化量:<1/15min

濕度:<60%,無凝結



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